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三元名家論壇:原子層沉積技術在有機光電子器件的應用探索
作者:     供圖:     供圖:     日期:2023-10-16     來源:    

講座主題:原子層沉積技術在有機光電子器件的應用探索

專家姓名:段羽

工作單位:吉林大學

講座時間:2023年10月17日 8:30-10:00

講座地點:物電學院1511報告廳

主辦單位:煙臺大學物理與電子信息學院

內容摘要:

鈣原子層沉積(Atomic layer deposition,ALD)是一種利用自限制反應在低溫下沉積出厚度精確可控且均勻致密的薄膜的技術,它可以實現對柔性光電子器件的高效封裝。本報告將介紹我們研究團隊圍繞ALD開展的關于有機發光二極管(OLED)和鈣鈦礦光伏器件的薄膜封裝,提高其耐水耐氧能力和壽命的研究,以及利用ALD發展的新型電致反光器件等的研究進展。分析了如何優化ALD材料和工藝參數,提高薄膜質量和均勻性的方法,以及ALD實現柔性光電子器件的封裝過程中的科學問題和產業應用所面臨的挑戰。

主講人介紹:

段羽,吉林大學唐匡特聘教授,博士生導師。聚焦光電子器件結構設計和工藝制備技術,發表論文150余篇,申請專利50余項,擔任《Journal electronic materials》責任編輯。作為項目負責人承擔了Z裝備部,J委科技委等,科技部以及國家自然科學基金等多項國家和省部級項目10余項,并承擔了華為和京東方等國內知名企業的低溫原子層沉積的技術開發。獲中國商業聯合會科技進步一等獎,吉林省科技進步一等獎,吉林省教育成果一等獎,入選第七批長白慧谷人才,吉林省青年科技獎,長春市突出貢獻專家,吉林省突出貢獻專家。

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